厂价直销1.0um 氧化铈研磨抛光粉、研磨抛光材料、金相耗材

(1) 粒度越大的氧化铈,磨削力越大,越适合于较硬的材料;
(2) 所有抛光粉的颗粒度都有一个分布问题,平均粒径或中位径D50的大小只决定了抛光速度的快慢,最大粒径决定了抛光精度的高低.要得到高精度要求,必须控制抛光粉的最大颗粒;
(3) 氧化铈晶型是由单晶颗粒团聚成不规则的六边形晶型颗粒,它具有良好的切削性、耐磨性和流动性..晶型决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性.粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中会分离(破碎),进而保证原始单晶颗的研磨抛光性能.
(4)氧化铝粉体广泛应用于:
玻璃、单晶硅片等半导体、压电晶学、光学晶体、光学玻璃、光学塑料、显像玻壳 、光学镜头、不锈钢材、水晶、人造或天然宝石等行业的高精度表面处理.
(5)氧化铈研磨抛光粉体广泛应用于:
各种光学玻璃、光学仪器、光学镜头、微晶玻璃基板、晶体表面、液晶电视、光学镜片、示波管、手机、平板电脑相关产品、集成电路光掩模、半导体晶片和金属类精密制品等的研磨光.
(6) CeO2-1.0微米氧化铈粉体特性:
原生粒径 0.8-1.2um; 中位粒径 1.0um;
产品颜色 浅色微粉; 产品纯度 (%) >99%;
比表面积 4-9m2/g; 产品包装 2.0LB/瓶 .